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多功能离子镀膜设备
发布时间:2011-04-09[收藏]
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该系列设备主要是(集)直流磁控溅射,中频溅射和电弧电子蒸发三种技术融合一体,结合线性离化脉冲偏压可使沉积颗料细化,膜层各项性能提高,能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。经公司技术人员多年**研发,通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统,并开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统,使镀膜膜层附着力致密度、从复度一致性好等特点,解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。**适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求**起硬的刀具、模具等。镀制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜(DLC)。

1、         磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论,把阴极表面磁场扩展到接近工件表面,提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。

2、         电弧等离子体蒸发源性能**,在优化阴极及磁场结构镀膜时可在30A电流下工作,镀膜膜层和基底界面产生原子扩散,又具有离子束辅助沉积的特点。

                型号真空室尺寸

JTZ-800

JTL-1000

JTL-1250

¢800×1000MM

¢1000×1000MM

¢1250×1100MM

镀膜方式及主要配置

六个多弧源+一套圆柱靶+一套平面矩形磁控溅射靶

八个多弧源+一对孪生(中频)磁控溅射靶+一套平面矩形磁控溅射靶

十二个多弧源+一对孪生(中频)磁控溅射靶+两套平面矩形磁控溅射靶

镀膜方式及主要配置

电弧电源、直流磁控电源、中频磁控电源、灯丝电源、脉冲电源、线性离化源

工艺气体控制

质量流量计+电磁陶瓷阀

真空室结构

立式侧(单)开门结构,后置抽气系统,双层水冷

真空系统组成

分子泵+罗茨泵+机械泵(5.0×10-4PA)

工件烘烤温度

常温到500度可调可控(PID控温),辐射加热

工件运动方式

公自转变频调速,0~20转/分

测量方式

数显复合真空计:测量范围从大气至1.0×10-5PA

控制方式

手动/自动/PC/PLC+HMI/PC四种方式可选

备注

以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做

联 系 人:何乃霞 女士
工作 QQ :
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网 址:
地 址:中国 广东 东莞 大岭山镇颜屋管理区
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